P-GeSi/P-Si探测器的研制The Manufacture of P GeSi/P Si Photodetector
刘淑平,贾跃虎
摘要(Abstract):
采用MBE法在Si衬底上生长GeSi异质结,制成GeSi/Si异质结探测器。测得其反向击穿电压为15V左右,光响应为0.5mA
关键词(KeyWords): GeSi;探测器
基金项目(Foundation):
作者(Author): 刘淑平,贾跃虎
摘要(Abstract):
采用MBE法在Si衬底上生长GeSi异质结,制成GeSi/Si异质结探测器。测得其反向击穿电压为15V左右,光响应为0.5mA
关键词(KeyWords): GeSi;探测器
基金项目(Foundation):
作者(Author): 刘淑平,贾跃虎